Skalierung der Steifigkeit von dünnen Filmen mittels Laser-Interferenz-Metallurgie: Am Beispiel von Ni/Al-Multi-Filmen (Berichte aus der Materialwissenschaft) : Daniel, Claus: Amazon.de: Bücher
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EUV-Lithographie und zukünftige Technologie | ZEISS SMT
Resist-Wiki: Interferenzlithographie - Allresist DE